大河原まさこ (立憲民主党)

2025年4月25日・第217回国会 衆議院 環境委員会 第6号(外部サイト、新しいタブで開きます) の 44 番目の発言(外部サイト、新しいタブで開きます)(全 195 発言)

京都の福知山市の芦渕浄水場では、管理目標値を超えるPFOS、PFOAが二〇二三年の十月に七十五ナノグラム・パー・リッター検出されました。昨年の十一月七日の京都新聞によれば、その上流にある産業廃棄物処分場の排水が流れ込む河川水の調査で、PFOA、PFOS以外のPFASが高濃度で検出されています。

しかし、下流の芦渕浄水場で測定しているのはPFOSとPFOAだけなんですね。現在、産廃処分場には排水基準も測定義務もありません。PFOS、PFOAも自主的に測定しているところがあるというのが現状です。

また、今後は半導体工場からのPFAS汚染も問題になると思われますが、半導体工場で実際に使われているPFASは、パーフルオロブタン酸、パーフルオロブタンスルホン酸といった規制のないPFASなんです。TSMCのある熊本県では、半導体工場周辺の地下水と下水処理場の排水、河川水について、それらを含めたPFAS二百五十種類の検査を実施しました。半導体工場の操業開始に伴い、PFBA、パーフルオロブタン酸、PFBS、パーフルオロブタンスルホン酸の濃度の上昇が確認されています。

このような実態があるのを踏まえると、半導体工場や産業廃棄物処理場の排水から汚染源となり得るPFASを想定し、早期にモニタリングを実施して、汚染拡大を予防する措置を追求すべきだと考えますが、いかがでしょうか。

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